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SiCMOSFET器件的商業(yè)化

文章出處:粉體網(wǎng)網(wǎng)責任編輯:作者:山川人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-03-19 15:59:00【

近20多年來(lái),以碳化硅為代表的寬禁帶半導體器件,受到了廣泛的關(guān)注。SiC材料具有3倍于硅材料的禁帶寬度,10倍于硅材料的臨界擊穿電場(chǎng)強度,3倍于硅材料的熱導率,因此SiC功率器件適合于高頻、高壓、高溫等應用場(chǎng)合。

其中SiCMOSFET是最為成熟、應用最廣的SiC功率開(kāi)關(guān)器件,具有高開(kāi)關(guān)速度、低損耗和耐高溫等優(yōu)點(diǎn),被認為是替代硅IGBT的最佳選擇。SiCMOSFET是一種具有絕緣柵結構的單極性器件,關(guān)斷過(guò)程不存在拖尾電流,降低了開(kāi)關(guān)損耗,進(jìn)而減小散熱器體積;并且其開(kāi)關(guān)速度快,開(kāi)關(guān)頻率高,有利于減小變換器中電感和電容的體積,提高裝置的功率密度,有效降低裝置的系統成本。

國際上多家企業(yè)已經(jīng)實(shí)現SiCMOSFET器件的商業(yè)化,并已逐步推出溝槽型SiCMOSFET器件。而國內的SiCMOSFET器件基本采用平面柵MOSFET結構,研發(fā)進(jìn)度相對落后,工藝技術(shù)的不成熟與器件可靠性是國內SiCMOSFET器件的主要問(wèn)題。

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