碳化硅產(chǎn)業(yè)如何破除發(fā)展瓶頸[ 02-26 13:55 ]

對于未來(lái)，我國經(jīng)濟運行仍處于鞏固企穩回升的關(guān)鍵時(shí)期，因此，保增長(cháng)任務(wù)依然艱巨，調結構、轉方式任務(wù)更加迫切。這就需要中國的工業(yè)企業(yè)認真貫徹落 實(shí)中央經(jīng)濟工作會(huì )議精神，把結構調整和發(fā)展方式轉變作為今年工作主線(xiàn)，切實(shí)提高工業(yè)增長(cháng)的質(zhì)量和效益，更加注重技術(shù)改造和自主創(chuàng )新，更加注重培育發(fā)展戰略 性新興產(chǎn)業(yè)，更加注重淘汰落后、兼并重組和節能減排，推進(jìn)信息化與工業(yè)化融合、軍民結合，保持工業(yè)平穩較快發(fā)展。 碳化硅產(chǎn)業(yè)特征明顯，據環(huán)球碳化硅網(wǎng)了解近幾年碳化硅產(chǎn)品的出口全面增長(cháng)，在各行業(yè)領(lǐng)域都有碳化硅的身影，不僅鑄造、油田、化工等大

碳化硅切割料化學(xué)分析方法執行[ 05-07 14:05 ]

碳化硅切割料用于單晶硅、多晶硅、砷化鉀、石英晶體等的線(xiàn)切割。高純度、大結晶的碳化硅原材料，保證了碳化硅切割料的優(yōu)良切割性能和穩定的物理狀態(tài)。下面小編 要為大家介紹的是碳化硅切割料標準的測定方法。 　　碳化硅切割料標準測定方法試樣用氯化鈉一鹽酸一氫氟酸處理，使二氧化硅溶解，加鑰酸錢(qián)使硅酸離子形成硅鋁雜多酸，用1、2、4一酸還原劑將其還原成硅鑰藍，于 700nm波長(cháng)處測定其吸光度。碳化硅在化工行業(yè)可用做煉鋼的脫氧劑和鑄鐵組織的改良劑，可用做制造四氯化硅的原料，是硅樹(shù)脂工業(yè)的主要原料。 　　碳化硅切割料化學(xué)分析方法執

分析我國碳化硅行業(yè)國家標準與國外標準差異[ 03-07 10:44 ]

   中國目前已基本建成了一套由國家標準、行業(yè)標準、地方標準和企業(yè)標準組成的標準體系或標準框架體系。目前我國碳化硅無(wú)強制性標準，推薦性標準共十四項，行業(yè)標準共五項。 　　我國現執行的碳化硅產(chǎn)品技術(shù)條件國家標準（GB/T2480—2008），根據不同用途分牌號規定了粒度組成、化學(xué)成分、磁性物含量、鐵合金粒、密度等項目，相對應的檢測分析方法全部等同或等效采用了最新版本的國際標準ISO8486（F磨料粒度組成）、ISO6344（P磨料粒度組成）、ISO9286（化學(xué)分析方法）和

碳化硅在傳統和高科技的各行業(yè)的重要用途[ 02-19 10:22 ]

碳化硅材料是諸多工業(yè)的基礎材料，雖然有著(zhù)廣泛的應用領(lǐng)域，但這些應用領(lǐng)域都需要在工業(yè)經(jīng)濟良性發(fā)展的基礎上才能正常運行，都需要國家工業(yè)經(jīng)濟在一定增長(cháng)率的前提下才能正常保證其碳化硅材料有一定的用量 隨著(zhù)科技的發(fā)展碳化硅的應用不會(huì )再局限在傳統的行業(yè)，而是逐漸趨向于高端的行業(yè)。比如：碳化硅用在開(kāi)關(guān)電源技術(shù)上，進(jìn)入21世紀，開(kāi)關(guān)電源技術(shù)將會(huì )有更大的發(fā)展，這需要我國電力電子、電源、通信、器件、材料等工業(yè)和學(xué)術(shù)各界努力協(xié)作，沿著(zhù)下述方向，開(kāi)發(fā)與開(kāi)關(guān)電源相關(guān)的產(chǎn)品和技術(shù)。而碳化硅SiC是功率半導體器件晶片的理想材料，其優(yōu)點(diǎn)是禁帶寬

碳化硅晶體的中紅外非線(xiàn)性光學(xué)頻率變換效應分析[ 11-21 11:19 ]

   中紅外波段激光在分子光譜、氣體探測、環(huán)境保護、醫學(xué)、激光通訊、紅外遙感及光電對抗等領(lǐng)域具有重要的應用，非線(xiàn)性光學(xué)頻率變換是目前獲得中紅外激光的有效途徑。常用的中紅外非線(xiàn)性光學(xué)晶體（硫化物及硒化物等）受到低激光損傷閾值（ 　　 　　碳化硅是一種重要的寬禁帶半導體材料，由于其具有高的熱導率、大的飽和電子漂移速率及高的擊穿場(chǎng)強，被廣泛應用于制備高溫、高頻及大功率電子器件。4H碳化硅點(diǎn)群為6mm，理論上存在二階非線(xiàn)性光學(xué)效應。同時(shí)碳化硅優(yōu)異的物理性質(zhì)，如寬的帶隙（2.3-3.2eV）