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碳化硅反射鏡的制作難點(diǎn)

文章出處:粉體網(wǎng)網(wǎng)責任編輯:作者:粉體圈人氣:-發(fā)表時(shí)間:2022-01-08 08:43:00【

隨著(zhù)技術(shù)發(fā)展,碳化硅反射鏡的應用領(lǐng)域正在不斷擴大,在空間對地觀(guān)測、深空探測、天文觀(guān)測和量子通訊等方面都能看到它的身影。

但是,這些高性能空間光學(xué)元件往往會(huì )要求具有超光滑表面(表面粗糙度<1nmRMS),因此碳化硅材料在反射鏡應用方面主要面臨以下兩方面困難:

一方面,由于SiC材料比剛度大,化學(xué)穩定性高,很難通過(guò)機械力拋光的方法直接獲得高質(zhì)量的SiC光學(xué)鏡面;

另一方面,非常難以直接制備完全致密的SiC材料,殘留的氣孔等缺陷會(huì )影響光學(xué)加工質(zhì)量,最終影響鏡面質(zhì)量。不過(guò)令人意外的是,后者的影響其實(shí)遠比前者要小。

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